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Johnsen UltraVac超高真空系列產品

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詳細介紹

加拿大Johnsen Ultravac Inc.(JUV)公司成立于1961,以其優異的性能與表現在全球范圍內贏得了良好的聲譽,被譽為超高真空領域設備制造商中的“奧德賽”!多年來,JUV一直保持著極高標準,成功地將用戶的要求轉化為高 級的科研設備,同時也為科研、商業及工業等領域輸出了大量的精密超高真空儀器。 

 


 
 
JUV公司的核心是設計并制造超高真空腔體和系統,并已經成為全球超高真空產品的ding級供應商!從粒子加速線組件到超高真空線性傳輸設備、XYZ操作臺和真空系統,都沉淀和蘊含了JUV公司豐富的經驗和精確的設計加工能力。無論是用戶定制產品,還是標準化的模塊產品,JUV公司始終將了解客戶的需要、回應他們提出的苛刻要求放在首位!

目前,JUV公司的用戶已經遍及了北美、歐洲和亞洲眾多國家的科研機構和企業的實驗室。從客戶提出的概念到設計和加工,JUV一直引領著超高真空系統、組件和設備的發展方向!

粒子加速線組件

 

  JUV提供了適用范圍廣泛的前端和例子加速線組件,可以滿足不同的應用,包括:

 

真空系統
  從概念的提出,到設計、加工和安裝,Johnsen Ultravac公司的專業技術人員能根據用戶的具體要求,設計制造出滿足任何應用的系統。多年來積累的經驗使Johnsen Ultravac為用戶制造出配置復雜的腔體、快速進樣室、樣品傳送裝置、旋轉臺、升起/擺動機械裝置、自動電子控制的水/氣分配系統等。
  在制造過程中,Johnsen Ultravac始終采用高純度的材料,嚴格質量控制,使得系統的真空度好于10-11 torr。這些系統包括有:
?  混合等離子體噴射系統(Hybrid Plasma Spray System)
?  電子束蒸發系統(E-Beam Evaporation System)
?  電子回旋共振/電感耦合等離子體系統(ECR/ICP System)
?  激光沉積系統(Laser Deposition)
?  濺射系統(Sputtering System)
?  分子束外延真空系統(MBE Vacuum System)
 
1、混合等離子體噴射系統(Hybrid Plasma Spray System)

  該系統由不銹鋼支架和不銹鋼雙層水冷腔體組成,配備有:等離子體炬(Plasma Torch)、射頻電源產生器(RF Power Generator)、配套的線路、襯底控制臺、泵、離子規、過程控制系統等。
?  射頻或直流電感耦合等離子炬(RF/DC-ICP Torch)安裝在腔體的。等離子體通過混合氣體,經電弧點燃而產生。
?  沉積源一般為粉末或者液體,利用等離子體噴射引入到墻體中。當使用液體的時候,會形成納米結構的鍍層或沉積層,且成分變化較大。
?  襯底的操作是利用6軸樣品臺進行的,樣品可以進行高速旋轉,加熱的溫度可達600℃。
?  混合氣體由一個氣體配給系統提供,它可以同時混合四種氣體,并配有流速控制單元、MFC 電源、LCD顯示器、輸氣凈化閥門和各種不銹鋼氣路接口。
?  整個腔體由一個干泵和旋轉增壓泵組成,并配備了水冷前級吸收裝置、空氣過濾器、節流閥等。真空度由電容壓力表和Pirani/壓力傳感器測得。
?  計算機中加載的PLC/PC真空過程自動控制系統可以對泵氣和等離子體沉積過程進行監控,操作簡單。在生長過程中,過程保護鎖可以保證用戶在使用過程中,不會出現意外情況。

 

  該系統采用模塊化理念進行設計與生產的,完全能夠滿足用戶日后的升級需要。

   

 2、電子束蒸發系統(E-Beam Evaporation System)

該系統采用2-真空腔設計,一鍵式操作,同時配有多個電子束蒸發源。存放有襯底的旋轉木馬位于主真空腔上方的快速進樣室中,通過閥門與主真空腔隔開。在對快速進樣室抽完真空后,打開閥門,即可將襯底對準電子束蒸發源。蒸鍍完成后,關閉閥門,將快速進樣室放氣,即可取出樣品,而主真空腔仍然保持較好的真空。

 

 特點:
?  自動抽氣和放氣;
?  系統狀態液晶顯示面板;
?  從大氣進入超高真空僅用時30分鐘;
?  馬達驅動的多樣品旋轉木馬;
?  直徑3 inch樣品的均勻度好于±0.25%;
?  設備結構緊湊,操作方便,維護簡單。
 
 
 3、電子回旋共振/電感耦合等離子體系統(ECR/ICP System)

  ECR/ICP系統可以同時對三個直徑為2’’的樣品進行處理,或者對一個5’’樣品進行處理。主真空腔利用分子泵進行抽氣,真空腔好于1×10-10mbar,可選配鈦升華泵。該系統配有19’’電子單元安放支架和電源配給面板。

 

4、激光沉積系統(Laser Deposition)

  該系統包括一個外徑為10’’的圓柱形真空腔體,配有:分子泵、真空閥門、兩個樣品操作臺、帶開閉器的高純藍寶石觀察窗、靶架(Target Holder)和襯底架。用戶可以任意選擇六個靶中的其中一個,將其沉積到直徑為2-3’’的圓形襯底上。在激光沉積過程中,襯底可以進行加熱。襯底通過快速進樣室引入到主真空腔中。系統的真空度好于2×10-10Torr。

 

5、濺射系統(Sputtering System)

  該系統主要包括:真空泵、RF電源、配套的線路、磁控管、氣路、虹膜閥、真空規、可加熱的樣品架和放置電子單元所需的19’’支架。在圓柱形真空腔上裝有三個、間隔為120度的2’’或3’’RF磁控管。用戶可以任意將三個濺射源組合,并沉積到襯底上。
  該系統為全金屬結構,并用金屬線將和底部的法蘭密封,真空腔的尺寸為18’O. D. × 18’’ Height。 在底部金屬線密封法蘭的中心處,有一個外徑為10’’的Conflat法蘭,上面配有三個外徑為2’’的RF磁控管,三個電磁閥、氣路端口和水冷污染屏蔽罩。濺射槍能在4-5’’的靶襯底上,以100?/min Fe速率進行沉積,樣品的均勻度好于±2%。

6、分子束外延真空系統(MBE Vacuum System)
 
  分子外延系統包括了一個直徑為24’’的多端口真空腔,內部配有LN2屏蔽罩,多可以裝載8個蒸發源。腔體的端口可以選配:觀察窗、閥門、蒸發速率監控裝置、RGA、RHEED、樣品臺、泵、真空規、傳樣桿等等。真空腔放置在一個不銹鋼支架上,配有19’’電子單元安放支架和電源配給面板。真空腔體內部配備的加熱器可以是整個腔體加熱到250℃。

 

XYZ樣品操作臺(XYZ Manipulators)

  Johnsen Ultravac XYZ樣品臺接口法蘭的尺寸為外徑2.75’’(波紋管內徑1.5’’) ~ 外徑13.25’’(波紋管內徑10’’)。樣品臺堅固耐用,可以承受很大的重量,特別適用于表面化學和物理應用、MBE和操作與定位多樣品等領域。

 


操作臺 
操作臺-8axis
 
  XY樣品臺可以作為獨立的單元或者與線性移動裝置聯合使用。XYZ樣品臺使用不銹鋼焊接,可以在10-10Torr真空中使用。針對不同使用條件的要求,我們可以提供:

 

X&Y移動范圍±0.50’’---±4.00’’
可加熱溫度1200℃
波紋管內徑1.39’’---12.00’’LN制冷溫度-160℃
基座法蘭外徑2.75’’---14.00’’LHe制冷溫度
10K
極坐標旋轉360度襯底基片尺寸
≤300mm
方位角旋轉±180度
承載重量
225kg (4000系列產品)
傾斜±30度 

   
線性移動裝置

 

  我們提供了應用到各種條件下的線性移動裝置

 

1000型系列產品
該系列特別適用于快速進樣室、樣品制備室、放置臺和樣品處理臺,它很容易地改裝成多樣品的托架。1000型產品采用聚四氟乙烯軸承支撐的齒條-小齒輪傳動裝置,齒條的材料為不銹鋼經電子拋光加工而成。連接終端可自由調節,靈活性強。 
 2000型系列產品2000型線性移動裝置采用擠壓鋁材料經陽極化拋光制成,可以烘烤到250℃。波紋管法蘭的尺寸為2.75’’、3.38’’和4.50’’。Z方向上的移動采用了不銹鋼ACME螺絲-銅螺母驅動,并由不銹鋼導桿支撐,每旋轉一周,Z方向上將移動5mm。用戶可以選配氣壓缸組件來驅動Z方向上的移動。
2000型可以用于樣品的轉移和處理過程中,具有加熱和冷卻、馬達驅動、旋轉平臺和XY平臺等功能與配置,且用戶可以自由選擇垂直或水平安放。
3000&4000型
系列產品
該系列產品采用高等級的鋁材料經陽極化拋光而制成的,可以烘烤到250℃。堅實的結構使得該產品具有的承重能力,并可垂直或水平安放。Z方向上的位置的準確性為0.1mm,每旋轉一周,Z方向上將移動1mm。


超高真空腔
 
  Johnsen Ultravac公司的超高真空腔有很多種配置,可以提供適合用戶各種特殊要求和性能的腔體。
  Johnsen Ultravac公司生產的超高真空腔體性能優異。在腔體的制造過程中,JUV的工程師們特別重視消除任何可能的漏氣現象,腔體的真空度都能好于10-11Torr。每一個端口都經過精心的校準,確保它們能夠準確的裝載各種配件。在進行切削加工時,特別注意避免腔體遭到各種材料的污染;在完成切削后,所有的部分會被仔細清洗,并在超凈間中進行焊接; 后,在完成端口位置的再一次確認后,超高真空腔體才會進行 后的清理與包裝。
 
真空腔主要技術參數:

? 腔體漏率小于2×10-10atm cc/sec
? 0.5%端口對準
? 玻璃球拋光
? 7步清洗過程
可選:
? MU金屬內層作為磁屏蔽罩
? 不銹鋼內層,用于沉積系統
? 電鍍拋光
? 水冷
? 低溫保持器隔熱罩 



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