儀器簡介英國Hiden公司的HAL 201 RC超高真空殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀專為檢測超高真空容器中的存在組分而設(shè)計，針對真空診斷進行精確的分析。

離子源為鍍金離子源，適合應(yīng)用在總壓小于5 x 10-10mbar的領(lǐng)域，其系統(tǒng)與EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀完全兼容。

主要特點：鍍金離子源，以減少離子源脫氣

氧化物涂層雙銥絲的離子源

雙法拉第/ Channeltron電子倍增器檢測器

技術(shù)規(guī)格：質(zhì)量數(shù)范圍： 200，300 amu

掃描速度： 100amu/s

最小掃描步階：0.01amu

靈敏度： 0.1 ppm～1ppm

穩(wěn)定性： 24h以上，峰高變化小于±0.5%

最小檢測分壓：5 x 10^-14 mbar

最大工作壓力：1 x 10^-4 mbar