TMC Stage- BaseTM450 with STACIS° inside

混合壓電陶瓷/音圈電機主動隔振系統(tǒng)

特點：

● 采用STACIS技術(shù)

● 采用可擴展的壓電陶瓷致動器

● 負載的位置可重復(fù)性在微米范圍內(nèi)

● 可安裝的框架設(shè)計

● 6個隔振自由度

● 可選的音圈電機前饋或反饋

● 主動隔振從0.6Hz開始

● 快速的調(diào)節(jié)時間來響應(yīng)平臺運動

● 沒有氣浮支撐

● 通過US,B2.0與電腦的圖形用戶界面

● GUI連接的高速數(shù)字控制器

● 操作簡單、性能穩(wěn)健，性價比高

為了滿足放置在振動隔離系統(tǒng)上的半導(dǎo)體設(shè)備嚴格的隔振要求，TMC繼續(xù)推進技術(shù)進步來開發(fā)新的解決方案。Stage- Base 450是專門設(shè)計用于具有高精度電動x-y平臺的先進半導(dǎo)體工具的主要振動隔離系統(tǒng)。這種儀器需要非常高xiao的振動隔離，同樣他們也要求通過快速設(shè)置移動平臺來減小負載從而極大的提高隔振效率。由于用于快速設(shè)置調(diào)節(jié)時間來進一步增加隔振效率的前饋控制音圈電機的加入，使其成為用于運動平臺應(yīng)用的先jin的主動振動和運動隔離系統(tǒng)。

*模擬VC-C (500 uin./s, 12.5 um/s)振動測試，負載為1540磅 (700 kg)

*給予支撐面300N力的作用下，負載加速度從0.8m/S降至0.01m/s'的響應(yīng)時間

TMC STACIS iX L aserTable-BaseTM

混合壓電陶瓷/氣浮主動隔振系統(tǒng)

特點：

● 采用STACIS技術(shù)

● 主動式壓電陶瓷內(nèi)部振動消除系統(tǒng)

● 從低于1Hz開始隔離振動.

● 擴展行程的壓電致動器，*高達60微米

● 6個隔振自由度

● 為達到*大振動消chu，串聯(lián)2個隔離系統(tǒng)

● 采用MaxDamp空氣隔離技術(shù)

● 操作簡單，性能穩(wěn)健，性價比高

● 桌子下有可用于放置設(shè)備的可選貨架

● 包含TMC的DC-2020數(shù)字控制器

LaserTable-Base對現(xiàn)有光學(xué)平臺的振動隔離技術(shù)進行了極da改shan。通常，光學(xué)平臺是由低頻氣動隔振系統(tǒng)支撐。雖然對于高頻的隔離非常有xiao，但是實際上被動系統(tǒng)在1-3HZ范圍內(nèi)會放大振動。

TMC的STACIS技術(shù)通過將壓電陶瓷制動器和慣性振動傳感器結(jié)合的技術(shù)來消chu而不是放大低頻振動，成功地克服了這些局限。LaserTable-Base綜合了氣浮和STACIS這兩種技術(shù)組成一個完整的振動消chu系統(tǒng)。由于兩種隔離系統(tǒng)的串聯(lián)，使此技術(shù)的振動隔離范圍從非常低的頻率到前所suo未you的高頻。

LaserTable-Base頂部的氣浮部分是模塊化的、可替換的。它可以是TMC的Gimbal PistonTM氣浮隔振支腿，或者MaxDampR氣浮隔離支腿，甚至可以是剛性支腿，這取決于實際應(yīng)用的需求。

模擬VC-A (2,000 μin./s,50 μm/s)振動測試，負載為2000磅(907 kg)

將低頻被動MaxDamp⑧氣浮隔振系統(tǒng)與壓電陶瓷主動隔振系統(tǒng)串聯(lián)，得到垂直和水平方向兩個單獨的隔振性能曲線。

由此產(chǎn)生的隔振性能對比明顯，以至于在某些頻率范圍內(nèi)，我們受到測量儀器噪聲地板的限制，無法測量和演示完整的隔離性能。也就是說，在10-12 Hz以上，組合系統(tǒng)的實際性能有望超過理論隔振性能曲線，因為組合隔離理論上是兩個子系統(tǒng)提供的隔離能力的總和。

森泉為您的科研事業(yè)添磚加瓦：

激光控制：激光電流源、激光器溫控器、激光器控制、伺服設(shè)備與系統(tǒng)等等

探測器：光電探測器、單光子計數(shù)器、單光子探測器、CCD、光譜分析系統(tǒng)等等

定位與加工：納米定位系統(tǒng)、微納運動系統(tǒng)、多維位移臺、旋轉(zhuǎn)臺、微型操作器等等

光源：半導(dǎo)體激光器、固體激光器、單頻激光器、單縱模激光器、窄線寬激光器、光通訊波段激光器、CO2激光器、中紅外激光器、染料激光器、飛秒超快激光器等等

光機械件：用于光路系統(tǒng)搭建的 gao 品 zhi 無應(yīng)力光機械件，如光學(xué)調(diào)整架、鏡架、支撐桿、固定底座等等

光學(xué)平臺：主動隔振平臺、氣浮隔振臺、實驗桌、剛性工作臺、面包板、隔振、隔磁、隔聲綜合解決方案等等

光學(xué)y件：各類晶體、光纖、偏轉(zhuǎn)鏡、反射鏡、tou射鏡、半透半反鏡、濾光片、衰減片、玻片等等

染料：激光染料、熒光染料、光致變色染料、光致發(fā)光染料、吸收染料等等