產品簡介

日立離子濺射儀 MC1000

日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術公司自行設計制造，針對掃描電鏡的精細高端需求而設計，適合微觀結構較復雜的樣品，尤其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。

主要特點：

1.      操作方便且有記憶功能，chuangLCD觸摸屏控制技術，可存儲五種處理方案；

2.      通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；

3.      通過選配測量單元可實現1nm至30nm的鍍層厚度控制。

應用領域：

離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象，并提高觀測效率，另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳，實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。