VTC-200PV真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。本機可以對涂膜機腔室進行抽真空，使樣品在完全真空的狀態下進行涂膜，適用于在空氣中易氧化變質的薄膜材料的使用，對腔體抽真空時采用樣品卡盤固定樣品。VTC-200PV真空旋轉涂膜機不對腔體抽真空工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在樣品吸盤上，該設備可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數不同，使設備緩慢提升速度至極限速度，有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜，且不會過多浪費，節約材料。VTC-200PV真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。1、設有12組程序，每組包含6個運行階段，每段增減速率設置范圍：100—2000rpm/s,每段時間范圍：0—60s。
2、樣品可采用真空吸附的方式進行固定，也可采用粘結或夾持的方式進行固定，操作簡便。
3、吸盤真空度可以達到-0.08MPa。
4、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置，以減少偏心而造成的震動或飛片。
5、根據樣件規格可以配用不同的吸盤，且更換方便簡單。
6、電機采用24V直流無刷電機，無級調速，可靠性高，適應性強，維修與保養簡單，噪音低，震動小，運轉平穩，啟動快速穩定，加速后運行平穩，可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。
7、當用真空吸附方式固定樣品時采用無油雙杠真空泵，體積小巧、結構簡單、操作容易、維護方便、不會污染環境等優點。
8、可在惰性氣體氣氛（如Ar、N2）下進行涂層
9、可在真空狀態下進行涂層，此時需要用粘接基片或夾持基片的方式對被涂基片進行固定。
10、腔體通體采用聚丙烯材質，使用壽命更長，提高耐化學腐蝕性和優異的抗應力開裂性能。
11、全英文操作系統。
12、具有開蓋保護功能，當涂膜過程中或涂膜結束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止.
13、控制器采用控制箱，液晶顯示數值，更直觀可靠。

產品名稱	VTC-200PV真空旋轉涂膜機
產品型號	VTC-200PV
安裝條件	本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：不需要 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：根據實驗需求添加 4、工作臺：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通風裝置：需要
主要參數	1、電源：220V 50HZ 2、功率：350W/24V 3、轉速：500rpm-6000rpm 4、可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段， 5、每段增減速率設置范圍：100 rpm s—2000 rpm /s，每段時間范圍：0-60s 6、吸盤規格：φ100㎜ 7、腔體真空度可達1Torr（VRD-8機械泵連續工作）
產品規格	尺寸：φ250mm×300mm； 重量：25kg

序號	名稱	數量	圖片鏈接
1	φ100mm真空吸盤	1個
2	卡盤2” 3” 4”	1個
3	中心定位器（含4個定位柱）	1個
4	滴膠注射器	1個
5	無油真空泵	1個
6	雙擊旋片真空泵VRD-8	1個

序號	名稱	功能類別	圖片鏈接
1	其它尺寸的真空吸盤	（可選）
2	國產移液槍	（可選）
3	進口移液槍	（可選）
4	VRD-16機械泵	（可選）