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無掩膜數(shù)字光刻機(jī) MCML-120A

品牌：筱曉光子
型號(hào)/貨號(hào)： MCML-120A/H80050011
產(chǎn)地：上海黃浦區(qū)
供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議

筱曉（上海）光子技術(shù)有限公司更新時(shí)間：2025-04-08 14:19:37

銷售范圍售全國(guó)

入駐年限第10年

營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品大型儀器設(shè)備(11件)

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產(chǎn)品特點(diǎn)

波長(zhǎng) 365nm
ZD幀 100mm x 100mm
分辨率 500nm
灰度光刻 128 levels
ZD曝光量 2000mJ/cm2
對(duì)準(zhǔn)精度 <100nm
場(chǎng)曲率 < 1 um
速度 2.5mm2 /sec
輸入文件 BMP, GDSII
Z級(jí)精度 <1 um
環(huán)境 20~25℃

詳細(xì)介紹

總覽

產(chǎn)品特點(diǎn)

采用數(shù)字微鏡 (DMD) 的無掩膜掃描式光刻機(jī)，365nm波長(zhǎng)

直接從數(shù)字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過程，支持直接讀取GDSII和BMP文件

全自動(dòng)化的對(duì)焦和套刻，易于使用

晶圓連續(xù)運(yùn)動(dòng)配合DMD動(dòng)態(tài)曝光，無拼接問題。全幅面JD定位精度0.1um

套刻精度： 0.2um

500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mmZD幅面（4~6寸晶圓），滿幅面曝光時(shí)間5~30分鐘

500um最小線寬

可灰度曝光（128階）

尺寸小巧，可配合專用循環(huán)裝置產(chǎn)生內(nèi)部潔凈空間

通用參數(shù)

應(yīng)用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工

帶有2.5D圖案的微光學(xué)元件，衍射光器件制作

教學(xué)、科研

參數(shù)

	MCML-110A	MCML-120A
Wavelength 波長(zhǎng)	365nm	365nm
Max. frame ZD幀	100mm x 100mm	100mm x 100mm
Resolution 分辨率	1.0um	500nm
Grayscale lithography 灰度光刻	64 levels	128 levels
Max exposure ZD曝光量	500mJ/cm²	2000mJ/cm²
Alignment accuracy 對(duì)準(zhǔn)精度	<200nm	<100nm
field curvature 場(chǎng)曲率	< 1 um	< 1 um
Speed 速度	5mm²/sec	2.5mm²/sec
Input file 輸入文件	BMP, GDSII	BMP, GDSII
Z level accuracy Z級(jí)精度	<1 um	<1 um
Environment 環(huán)境	20~25℃	20~25℃