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無掩模光刻機(jī)，激光直寫系統(tǒng)
- 品牌：韓國(guó)MIDAS
- 型號(hào)： 無
- 產(chǎn)地：亞洲 韓國(guó)
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議
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科睿設(shè)備有限公司
更新時(shí)間：2025-03-18 15:31:17 -
銷售范圍售全國(guó)
入駐年限第10年
營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品光刻設(shè)備(3件)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
- 光刻工藝是半導(dǎo)體工藝Z關(guān)鍵的步驟之一，用于圖形定義，直接決定半導(dǎo)體整線 工藝的水平。
詳細(xì)介紹
※ 主要應(yīng)用：MEMS、先進(jìn)封裝、化合物半導(dǎo)體、光電器 件、光電顯示、生物芯片、3D結(jié)構(gòu)等微米級(jí)和亞微米級(jí)圖 形，尤其在厚膠、碎片、邊緣曝光等特殊工業(yè)有明顯優(yōu) 勢(shì)。
※ 可用于0.3um線寬及以上的光刻工藝。
※ 支持單面對(duì)準(zhǔn)、雙面對(duì)準(zhǔn)及套刻工藝。
※ XY移動(dòng)范圍100mm-300mm，Z軸移動(dòng)范圍25mm， 360度樣品旋轉(zhuǎn)。
※ 其他尺寸需客戶定制。
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