- 2025-01-21 09:35:14光學浮區法單晶爐
- 光學浮區法單晶爐是一種利用光學浮區技術生長單晶的設備。它通過高頻感應加熱使原料在浮區內熔化，并通過控制溫度梯度和晶體生長速率，使熔體在浮區下方逐漸凝固形成單晶。該設備具有生長速度快、純度高、晶體質量好等優點，適用于多種材料的單晶生長，如半導體材料、光學材料等。在科研和工業生產中，光學浮區法單晶爐發揮著重要作用，為新材料研發和高端制造提供了關鍵設備支持。
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光學浮區法單晶爐相關內容
光學浮區法單晶爐資訊
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- Nature子刊！高溫高壓光學浮區法單晶爐助力鎳基超導體高壓超快光譜研究取得新突破
- 由于鎳基超導具有與銅酸鹽類似的d電子結構，表明鎳基超導體具有潛在的高溫超導性，因而受到關注。尤其，近期的研究成果進一步支持了這一假設。
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光學浮區法單晶爐問答
- 2023-03-16 00:05:10高溫高壓光學浮區法單晶爐助力鎳酸鹽Pr4Ni3O8材料取得新進展
- 超導材料和性質的研究一直是當前凝聚態物理領域的熱點之一，自從上個世紀在銅氧化物或酮酸鹽中發現高溫超導以來，關于其他類銅氧化物材料及其高溫超導電性的研究也從未停止過。由于鎳在元素周期表中處于銅的鄰近位置，二者在性質上有些共同之處，因此鎳氧化物或鎳酸鹽也常被認為是一種極具潛力的高溫超導備選材料。 2019年平面鎳酸鹽中超導性的發現再次向人們提出了Ni1+化合物和Cu2+銅酸鹽兩種超導體的電子結構和相關性對比研究問題。近期，Haoxiang Li等人[1]對三層鎳酸鹽Pr4Ni3O8做了角分辨光電子能譜（ARPES）研究，研究表明Pr4Ni3O8具有類似于空穴摻雜銅酸鹽的費米面，二者類似但卻又非常不同。具體來說，Pr4Ni3O8費米面的主要部分與雙層銅酸鹽的主要部分非常相似，但Pr4Ni3O8的費米面還有一個額外的部分可以容納額外的空穴摻雜。Haoxiang Li等人發現鎳酸鹽中的電子相關性大約是銅酸鹽的兩倍，并且幾乎與k無關，這表明其起源于局域效應，可能是莫特相互作用；而銅酸鹽中的相互作用則不那么局域化。盡管如此，鎳酸鹽仍然表現出電子散射率中的奇異金屬行為。了解這兩個強相關超導體家族之間的異同極具挑戰性。關于該項工作的更多研究內容可參考文獻[1]。Crystal structure and Fermi surface of Pr4Ni3O8 圖片引自[1]Comparing electronic correlation effects of Pr4Ni3O8 and cuprates 圖片引自[1] Haoxiang Li等人在該項研究中所用的Pr4Ni3O8單晶樣品是在德國ScIDre公司的HKZ系列高溫高壓光學浮區法單晶生長設備中制備獲得（O2氣氛，140 bar壓力）。德國ScIDre公司推出的HKZ系列高溫高壓光學浮區法單晶爐可實現高達3000℃及以上的生長溫度，晶體生長腔壓力可達300 bar，可實現10-5 mbar的高真空環境，適用于生長各種超導材料、介電材料、磁性材料、電池材料等各種氧化物及金屬間化合物單晶生長。德國ScIDre公司推出的HKZ系列高溫高壓光學浮區法單晶爐外觀圖 [1] Electronic structure and correlations in planar trilayer nickelate Pr4Ni3O8 Li H, Hao P, Zhang J, Gordon K, Linn AG, Chen X, Zheng H, Zhou X, Mitchell JF, Dessau DS. Sci. Adv. 9, eade4418 (2023) 13 January 2023 Doi: 10.1126/sciadv.ade4418相關產品：高溫高壓光學浮區爐：http://www.ghhbs.com.cn/zt2203/product_386290.html
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- 2022-12-30 17:37:53高溫高壓光學浮區法單晶爐在量子自旋冰領域應用進展
- 科研快報磁性是在宏觀和微觀物質世界中都普遍存在的性質之一，從電子到我們賴以生存的地球，人們對磁性的研究和應用無處不在，因此深入研究物質的磁性及其背后的機理一直是凝聚態物理領域的重要研究熱點之一。眾所周知，奇異的磁性行為往往源于競爭性相互作用。人們在幾何受挫體系中已經對此進行了研究，如三角形、籠目、超籠目和燒綠石晶格體系等。其中，在燒綠石晶格上，磁矩位于共頂點四面體網絡的節點上，在一定條件下，這樣的體系可以進入自旋冰態。處于自旋冰態的兩個自旋指向四面體的中心，另外兩個自旋背離四面體的中心。一些稀土燒綠石氧化物，如Ho2Ti2O7或Dy2Ti2O7等均已被發現存在自旋冰。目前理論上已通過晶體場低激發態、多極相互作用等角度來研究量子自旋冰。越來越多的證據表明，含有Ce3+的燒綠石（比如Ce2Sn2O7、Ce2Zr2O7等）是3D量子自旋液體的具體實例，值得對類似材料做更深入的研究。Ce2Hf2O7是上述Ce2Sn2O7、Ce2Zr2O7之外的另外一種含Ce3+的燒綠石化合物。近期，瑞士保羅謝勒研究所Victor Porée等人報道了Ce2Hf2O7+δ的制備和表征工作，重 點關注了四價Ce離子在樣品中的濃度情況。作者通過對樣品的晶體場分析和磁測量的結果對比詳細研究了單離子性質；磁化率數據顯示，在Ce2Hf2O7中觀察到了跟Ce2SnO7類似的磁性行為，表明其可能也是八極量子自旋冰基態。Victor Porée等人在該項工作中，采用德國ScIDre公司研發的HKZ高溫高壓光學浮區爐進行了Ce2Hf2O7晶體生長實驗。上述截圖引自[1]上述截圖引自[1]設備簡介德國ScIDre公司推出的HKZ系列高溫高壓光學浮區法單晶爐可實現高達3000℃甚至及以上的晶體生長溫度，晶體生長腔壓力可高達300 bar，可實現10-5mbar的高真空環境，適用于生長各種超導材料、介電材料、磁性材料、電池材料等各種氧化物及金屬間化合物單晶生長。德國ScIDre公司推出的HKZ系列高溫高壓光學浮區爐外觀圖若您對設備有任何問題，歡迎掃碼咨詢！參考文獻：[1] Crystal-field states and defect levels in candidate quantum spin ice Ce2Hf2O7 Victor Porée, Elsa Lhotel, Sylvain Petit, Aleksandra Krajewska, Pascal Puphal, Adam H. Clark, Vladimir Pomjakushin, Helen C. Walker, Nicolas Gauthier, Dariusz J. Gawryluk, and Romain Sibille, Phys. Rev. Materials 6, 044406 – Published 13 April 2022
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- 2022-12-17 17:23:36接觸角測量儀 | 采用光學懸滴法測量CMC有哪些優勢？
- 臨界膠束濃度(CMC)是用于測量和表征表面活性劑的重要參數，必須通過實驗來確定。 傳統上采用 DuNoüy 環法或 Wilhelmy 片法來確定表界面張力，然后基于表面界面張力來測量CMC。但無論是 DuNoüy環法或還是Wilhelmy 片法都不適合于測量含有表面活性劑的溶液。LAUDA Scientific接觸角測量儀發現了測量CMC的新方法，即采用光學懸滴分析法測量臨界膠束濃度(CMC)，LAUDA接觸角測量儀能夠配備CMC擴展模塊，實現光學懸滴法CMC全自動測量。與傳統的基于力學天平法測量 CMC 相比，LAUDA接觸角測量儀提供了完美的全新測量方法和全自動測量設備，功能強大，操作簡單，可應用于科學研究、產品開發和工業生產。 與傳統測量方法相比，光學懸滴分析法在準確性、可靠性、方便性和對包含各種表面活 性劑的溶液的適用性，以及自動化程度方面，都具有明顯的優勢:1) 較高的絕對和相對精度2) 非常廣泛的測量范圍：從約 10-3 到幾千 mN/m； 3) 完美的適用于測量表面和界面張力； 東方德菲知識分享 4) 全自動、無需監測即可完成測量； 5) 可暫停、中斷，并繼續測量； 6) 終點濃度在測量完成后仍可擴展； 7) 適用于各種表面活性劑； 8) 一次測量即可確定靜態 CMC 以及動態 CMC。
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- 2025-01-23 11:45:13膠質層測定儀咋關后爐
- 膠質層測定儀咋關后爐 在膠質層測定儀的使用過程中，設備的關閉操作是非常重要的一環，尤其是在操作完成后及時關爐是保障設備長期穩定運行的關鍵。正確關閉后爐不僅能夠有效延長設備使用壽命，還能保證下次使用時設備狀態的良好性。本文將詳細探討如何在完成膠質層測定工作后，正確地關掉后爐，并介紹一些常見的操作技巧和注意事項。 在膠質層測定儀的使用過程中，后爐作為核心部件之一，承擔著樣品加熱和保溫的任務，因此操作人員需要嚴格按照步驟關閉。關后爐的正確操作，不僅影響到設備的穩定性，也與測定結果的準確性息息相關。因此，正確操作后爐關閉步驟，不僅是設備維護的一部分，也是確保數據可靠性的重要保障。 一、關閉后爐的基本步驟 停止加熱：當實驗結束后，應首先通過儀器的控制面板停止加熱功能，確保后爐內部溫度逐漸降至安全范圍。這個步驟是防止過高溫度對設備造成損害的步。 斷開電源：在溫度逐步下降時，應按照設備的操作手冊，斷開后爐的電源供應。通常，測定儀會有專門的電源開關或斷電裝置，需要在溫度安全后斷開電源，避免電力消耗和電路過載。 清理爐內殘留物：關閉電源后，應等待設備冷卻至適宜溫度，再小心地清理爐內殘留物。這不僅能防止樣品物質在爐內凝固，影響下次測定，還能保持設備內部的清潔，避免污染。 檢查設備狀態：在清理完畢后，檢查后爐的各項參數是否恢復至待機狀態，包括爐體的溫度、控制面板顯示等。確認設備一切狀態正常后，可以徹底關閉后爐。 二、常見的誤操作與防范 在實際操作中，有時會因操作不當造成后爐關閉時的故障或影響設備使用壽命。以下是幾種常見的誤操作及如何防范： 忽視溫度降溫：有些操作人員可能急于關閉后爐電源，但直接斷電會導致溫度驟降，這對設備內部結構產生不利影響。因此，確保溫度先降至安全范圍是非常重要的。 過早清理爐內物質：在后爐溫度未降至安全值時清理爐內殘留物，不僅可能會燙傷操作人員，還會增加爐內的氧化風險，影響下次測定的準確性。 不定期檢查設備：有時設備使用后并未進行全面檢查，導致后爐內部出現故障，影響下次使用。因此，定期檢查后爐的清潔度和溫控系統是確保設備長期正常運行的關鍵。 三、后爐的保養與維護 為了延長膠質層測定儀的使用壽命，定期對后爐進行維護至關重要。操作人員應根據使用頻率定期檢查后爐的內部結構，如溫控系統、加熱元件以及電氣部分，確保無故障運行。及時更換老化或損壞的部件，能有效避免因設備問題導致的測試誤差。 結語 膠質層測定儀后爐的關閉不僅是操作流程中的一個簡單步驟，它直接影響到設備的性能和測定結果的準確性。因此，正確的操作方法和定期的設備檢查維護，是確保設備長期穩定運行的關鍵。通過科學合理的操作流程，操作人員能夠大化地延長設備壽命，同時保證每次測試的精確與可靠性。
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- 2025-02-01 18:10:13光學金相顯微鏡型號區別
- 光學金相顯微鏡作為金屬材料研究和分析中的重要工具，不同型號的光學金相顯微鏡在性能、配置和適用領域上存在顯著差異。在本文中，我們將詳細探討市面上常見的光學金相顯微鏡型號，分析它們之間的區別，以及如何根據實際需求選擇適合的型號。通過對比不同型號的特點和功能，幫助科研人員、工程技術人員及相關領域的從業人員更好地理解每種顯微鏡的優勢與局限，從而做出科學合理的選購決策。 光學金相顯微鏡主要用于觀察金屬樣品的顯微結構，包括晶粒大小、組織形態及缺陷等，通過光學成像技術對樣本進行放大分析。不同型號的顯微鏡在鏡頭配置、光源選擇、放大倍數、圖像處理能力等方面有所不同，適應的工作環境和研究需求也有所差異。 基礎型光學金相顯微鏡通常采用普通光源和標準物鏡，適合對大多數金屬材料進行基本的顯微觀察。這類顯微鏡的放大倍率較低，適用于初步的材料研究和常規檢測。在一些高精度要求的研究中，如需要分析納米級別的細節，用戶可能需要選擇更高端的型號。 中高端型號的光學金相顯微鏡則配備了高亮度的LED光源或氙燈，能夠提供更強的照明效果，幫助研究人員在高倍放大下獲得更清晰的圖像。這些型號往往還配有圖像分析軟件，能夠對顯微圖像進行自動化處理、統計分析，提升了操作的便捷性與精度。 對于高精度、特殊研究要求的顯微鏡，如電子顯微鏡或掃描電鏡，其配件和附件也更為復雜，除了更高的放大倍率，還可能包括更多的光源選擇、反射光觀察系統以及精密的樣品臺調節系統。這類顯微鏡的應用范圍主要集中在對金屬材料微觀結構、晶體缺陷等進行深度分析。 光學金相顯微鏡的型號選擇不僅僅是依據顯微鏡的外形或價格，還要根據具體的使用需求、樣品類型及實驗要求來決定。了解各型號之間的差異及其性能特點，能夠確保研究和分析過程的高效性與準確性，避免盲目選擇和不必要的成本浪費。通過合理的型號選擇，科研人員可以大限度地提高實驗效果，獲得更加精確的分析結果。
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