- 2025-01-21 09:29:42超聲表面波技術
- 超聲表面波技術是一種利用超聲波在物體表面傳播的特性進行檢測的技術。它通過在物體表面激發超聲波，利用表面波對物體表面及近表面缺陷進行檢測。該技術具有檢測靈敏度高、對表面缺陷檢測效果好、非破壞性檢測等優點，廣泛應用于金屬、非金屬等材料的無損檢測領域。通過超聲表面波技術，可以準確判斷物體表面是否存在裂紋、腐蝕等缺陷，為材料的質量控制和安全保障提供有力支持。
資源：4233個 瀏覽：11次展開
超聲表面波技術相關內容
超聲表面波技術資訊
-
- 關于“low-k材料機械特性計量檢測”獲批公益技術應用研究項目
- 項目將基于超聲表面波技術，深入研究low-k材料機械特性的在線無損表征，擬解決low-k材料機械特性計量檢測中相應的關鍵科學問題和技術難點。
超聲表面波技術產品
產品名稱
所在地
價格
供應商
咨詢
- 微型超聲測振儀/超聲振動傳感器
- 國內 上海
- 面議
-
上海昊量光電設備有限公司
售全國
- 我要詢價 聯系方式
- 微型超聲測振儀/超聲振動傳感器
- 國內 上海
- 面議
-
上海昊量光電設備有限公司
售全國
- 我要詢價 聯系方式
- 聯用技術
- 國外 美洲
- 面議
-
珀金埃爾默企業管理(上海)有限公司
售全國
- 我要詢價 聯系方式
- 核磁共振成像技術實驗儀
- 國內 江蘇
- 面議
-
蘇州紐邁分析儀器股份有限公司
售全國
- 我要詢價 聯系方式
- 超聲攪拌器
- 國內 山東
- 面議
-
山東霍爾德電子科技有限公司
售全國
- 我要詢價 聯系方式
超聲表面波技術問答
- 2025-04-18 17:45:17超聲篩分儀怎么調整頻率
- 超聲篩分儀怎么調整頻率 在超聲篩分儀的操作過程中，調整頻率是優化篩分效果的關鍵步驟之一。正確的頻率設置能夠顯著提高篩分效率，減少物料的堵塞現象，并確保篩分精度。因此，掌握如何調整超聲篩分儀的頻率，是操作人員必備的技術。本文將詳細介紹如何調整超聲篩分儀的頻率，以幫助您更好地理解其工作原理及操作技巧。 什么是超聲篩分儀的頻率調整？ 超聲篩分儀通過超聲波技術增強篩網的振動，解決了傳統篩分設備因顆粒粘附、篩網堵塞等問題而造成的效率低下。在超聲波的作用下，顆粒受到周期性的振動，從而提高了顆粒的通過率和篩分精度。超聲篩分儀的頻率調整涉及對超聲波振動頻率的設定，通常根據物料的性質、顆粒大小和篩網孔徑來決定佳頻率。 如何調整超聲篩分儀的頻率？ 了解設備的頻率范圍 大多數超聲篩分儀的頻率設置在20kHz到40kHz之間。選擇適合物料的頻率是調整的步。不同的物料具有不同的頻率響應特性，因此了解其物理特性（如顆粒大小、形態和濕度）至關重要。 根據物料特性選擇頻率 細顆粒物料：對于細小顆粒，頻率較高（如40kHz）可以提供更精細的篩分效果。高頻率能夠有效減輕顆粒與篩網的粘附，提升物料通過率。 粗顆粒物料：對于較大顆粒，頻率較低（如20kHz）會更有效，因為低頻率振動更強，能夠防止粗顆粒在篩網表面的堆積。 調整頻率的方式 超聲篩分儀一般配備了頻率調節裝置。操作人員可以通過設備上的控制面板或者數字顯示屏來調整頻率。有些設備甚至能夠自動根據負載情況調節頻率，以確保始終保持佳篩分狀態。 監測篩分效果 調整頻率后，需要進行實際篩分測試，觀察篩分效率和精度的變化。如果篩分效果不理想，可以微調頻率，直到達到佳篩分效果為止。注意觀察設備的運行狀態，避免超聲波發生器過載，確保設備長期穩定運行。 注意事項 避免頻率過高或過低：頻率過高可能導致設備運行不穩定，甚至損壞篩網。頻率過低則可能導致篩分效率降低，不能充分利用超聲波的作用。 定期保養：超聲篩分儀的頻率調整不僅僅是操作時的任務，設備需要定期保養和檢查，確保頻率調節系統的精確性和設備的穩定性。 總結 超聲篩分儀的頻率調整對于提升篩分效果、提高篩分精度至關重要。操作人員需要根據物料的特性選擇合適的頻率，并通過實踐調節與測試，不斷優化篩分過程。通過科學的頻率調整，可以有效提高篩分效率，延長設備使用壽命。掌握這一技巧，將有助于充分發揮超聲篩分儀的技術優勢，實現更高效的篩分操作。
16人看過
- 2023-09-25 12:12:32什么是實驗室超聲消泡機？工作原理是怎樣的？
- 超聲波消泡設備也叫超聲波脫氣機、超聲波消泡機、超聲波消泡器。超聲波在液體中產生空化作用,使得液體中溶解的氣體(如:空氣)不斷凝聚,成為很細小的氣泡,最后成為球狀氣泡脫離液體表面，從而達到液體脫氣、液體消泡的目的。實驗室超聲消泡機工作原理：超聲波從聲發射器傳播到液體介質中，產生交替的正負壓相。在負壓(稀化)階段足夠高強度的超聲波能克服分子間的粘合力，在液體中產生大量的近真空微泡。氣泡在膨脹時吸入更多的氣體，在收縮時釋放出來，因此體積迅速增大。這個過程稱為“定向”或“整流”擴散。由于氣相聲空化過程中氣泡在液體中分布均勻，且總表面積大，因此溶解氣體在整個受影響液體體積內的遷移速度快且均勻。其結果是形成了大量的振蕩氣泡，其中包含了以前溶解在液體介質中的氣體。氣泡在超聲波場中跳動時，會相互加速并合并，形成更大的氣泡。這一過程進行得很快，直到氣泡達到足夠大的浮力，浮在液體上，并將先前被困的氣體釋放到環境中。
135人看過
- 2022-11-18 16:15:48反應離子刻蝕技術
- 反應離子刻蝕概述：反應離子腐蝕技術是一種各向異性很強、選擇性高的干法腐蝕技術。它是在真空系統中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的，利用了離子誘導化學反應來實現各向異性刻蝕，即是利用離子能量來使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進化學反應，同時離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。主要用于Si、SiO2、SiNx、半導體材料、聚合物、金屬的刻蝕以及光刻膠的去除等，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等領域。 工作原理：通常情況下，反應離子刻蝕機的整個真空壁接地, 作為陽極, 陰極是功率電極, 陰極側面的接地屏蔽罩可防止功率電極受到濺射。要腐蝕的基片放在功率電極上。腐蝕氣體按照一定的工作壓力和搭配比例充滿整個反應室。對反應腔中的腐蝕氣體, 加上大于氣體擊穿臨界值的高頻電場, 在強電場作用下, 被高頻電場加速的雜散電子與氣體分子或原子進行隨機碰撞, 當電子能量大到一定程度時, 隨機碰撞變為非彈性碰撞, 產生二次電子發射, 它們又進一步與氣體分子碰撞, 不斷激發或電離氣體分子。這種激烈碰撞引起電離和復合。當電子的產生和消失過程達到平衡時, 放電能繼續不斷地維持下去。由非彈性碰撞產生的離子、電子及及游離基(游離態的原子、分子或原子團) 也稱為等離子體, 具有很強的化學活性, 可與被刻蝕樣品表面的原子起化學反應, 形成揮發性物質, 達到腐蝕樣品表層的目的。同時, 由于陰極附近的電場方向垂直于陰極表面, 高能離子在一定的工作壓力下, 垂直地射向樣品表面, 進行物理轟擊, 使得反應離子刻蝕具有很好的各向異性。所以，反應離子刻蝕包括物理和化學刻蝕兩者的結合。 刻蝕氣體的選擇對于多晶硅柵電極的刻蝕，腐蝕氣體可用Cl2或SF6，要求對其下層的柵氧化膜具有高的選擇比。刻蝕單晶硅的腐蝕氣體可用Cl2/SF6或SiCl4/Cl2；刻蝕SiO2的腐蝕氣體可用CHF3或CF4/H2；刻蝕Si3N4的腐蝕氣體可用CF4/O2、SF6/O2或CH2F2/CHF3/O2；刻蝕Al（或Al-Si-Cu合金）的腐蝕氣體可用Cl2、BCl3或SiCl4；刻蝕W的腐蝕氣體可用SF6或CF4；刻蝕光刻膠的腐蝕氣體可用氧氣。對于石英材料, 可選擇氣體種類較多, 比如CF4、CF4+ H2、CHF3 等。我們選用CHF3 氣體作為石英的腐蝕氣體。其反應過程可表示為：CHF3 + e——CHF+2 + F (游離基) + 2e，SiO 2 + 4F SiF4 (氣體) + O 2 (氣體)。SiO 2 分解出來的氧離子在高壓下與CHF+2 基團反應， 生成CO ↑、CO 2↑、H2O ↑、O F↑等多種揮發性氣體。對于鍺材料、選用含F 的氣體是十分有效的。然而, 當氣體成份中含有氫時, 刻蝕將受到嚴重阻礙, 這是因為氫可以和氟原子結合, 形成穩定的HF, 這種雙原子HF 是不參與腐蝕的。實驗證明, SF6 氣體對Ge 有很好的腐蝕作用。反應過程可表示為：SF6 + e——SF+5 + F (游離基) + 2e，Ge + 4F——GeF4 (揮發性氣體) 。 設備：典型的（平行板）RIE系統包括圓柱形真空室，晶片盤位于室的底部。晶片盤與腔室的其余部分電隔離。氣體通過腔室頂部的小入口進入，并通過底部離開真空泵系統。所用氣體的類型和數量取決于蝕刻工藝;例如，六氟化硫通常用于蝕刻硅。通過調節氣體流速和/或調節排氣孔，氣體壓力通常保持在幾毫托和幾百毫托之間的范圍內。存在其他類型的RIE系統，包括電感耦合等離子體（ICP）RIE。在這種類型的系統中，利用RF供電的磁場產生等離子體。雖然蝕刻輪廓傾向于更加各向同性，但可以實現非常高的等離子體密度。平行板和電感耦合等離子體RIE的組合是可能的。在該系統中，ICP被用作高密度離子源，其增加了蝕刻速率，而單獨的RF偏壓被施加到襯底（硅晶片）以在襯底附近產生定向電場以實現更多的各向異性蝕刻輪廓。 操作方法：通過向晶片盤片施加強RF（射頻）電磁場，在系統中啟動等離子體。該場通常設定為13.56兆赫茲的頻率，施加在幾百瓦特。振蕩電場通過剝離電子來電離氣體分子，從而產生等離子體 。在場的每個循環中，電子在室中上下電加速，有時撞擊室的上壁和晶片盤。同時，響應于RF電場，更大質量的離子移動相對較少。當電子被吸收到腔室壁中時，它們被簡單地送到地面并且不會改變系統的電子狀態。然而，沉積在晶片盤片上的電子由于其DC隔離而導致盤片積聚電荷。這種電荷積聚在盤片上產生大的負電壓，通常約為幾百伏。由于與自由電子相比較高的正離子濃度，等離子體本身產生略微正電荷。由于大的電壓差，正離子傾向于朝向晶片盤漂移，在晶片盤中它們與待蝕刻的樣品碰撞。離子與樣品表面上的材料發生化學反應，但也可以通過轉移一些動能來敲除（濺射）某些材料。由于反應離子的大部分垂直傳遞，反應離子蝕刻可以產生非常各向異性的蝕刻輪廓，這與濕化學蝕刻的典型各向同性輪廓形成對比。RIE系統中的蝕刻條件很大程度上取決于許多工藝參數，例如壓力，氣體流量和RF功率。 RIE的改進版本是深反應離子蝕刻，用于挖掘深部特征。
280人看過
- 2021-12-21 16:47:12淺談超聲功率放大器的特點和原理
- 功率放大器（VoltageAmplifier）是提高電壓信號的裝置。對弱信號，常用多級放大，級聯方式分直接耦合、阻容耦合和變壓器耦合，要求放大倍數高、頻率響應平坦、失真小。當負載為諧振電路或耦合回路時，要求在指定頻率范圍內有較好幅頻和相頻特性以及較高的選擇性。功率放大器的特點：（1）信號發生器輸入的信號最大是20Vpp，通過功率放大器可以提升電壓和功率；（2）是具有可增益調節的放大器，實質是一個電壓放大器；（3）不容易引入現場干擾信號，電路受連接電纜長度變化的影響不大，幾乎可忽略不計，可用于壓電式傳感器遠距離傳輸放大；（4）數控增益系統可以快速調節需要的輸出電壓，兼容市面所有主流的任意波形函數信號發生器，實現信號放大；（5）頻帶寬、靈敏度高、信噪比高、結構簡單、工作可靠和重量輕。功率放大器與超聲波發生器：功率放大器是用來放大超聲波發生器產生的信號，超聲波發生器來產生一個特定頻率的信號，這個信號可以是正弦信號，也可以是脈沖信號，這個特定頻率是換能器工作的頻率。超聲波發生器的輸出功率調節：當超聲波發生器接入電壓的發生變化時，發生器的輸出功率也隨著發生變化。會使超聲波換能器的機械振動不穩定，導致工作效果不佳。因此需要穩定輸出功率，通過調節放大倍數，具體分為粗調（1step）和細調（0.1 step）兩種，通過功率反饋信號相應調整功率放大器，使得功率放大穩定。本文素材由西安安泰測試整理發布，如果想了解更多，請持續關注安泰測試網www.agitek.com.cn。安泰功率放大器廣泛應用于壓電陶瓷驅動、超聲波測試、聲吶系統應用和MEMS測試等，可提供免費樣機S用服務。
404人看過
- 2023-07-03 13:26:49纖維素測定儀技術特點
- 纖維素測定儀技術特點： 1.可同時處理3個樣品 2.樣品量：0.5-3g 3.重現性：
96人看過
滬公網安備 31011502008050號