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2025-01-10 17:02:42二氯甲烷真空紫外光電離: 二氯甲烷真空紫外光電離是一種分析技術，利用真空環境下的紫外光對二氯甲烷分子進行電離。該技術通過高能紫外光子激發二氯甲烷分子中的電子，使其躍遷到高能態，進而電離產生離子和自由電子。這些離子和自由電子在電場作用下被分離和檢測，用于分析二氯甲烷的組成、結構和性質。該技術具有高靈敏度、高分辨率和選擇性好等優點，在環境監測、化學分析等領域有廣泛應用。

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二氯甲烷真空紫外光電離資訊

大連化物所揭示了光解離在鹵代烴真空紫外光電離過程中的重要性

中性粒子在光輻射的作用下產生的電離，稱為光電離。

505
2023-02-20
二氯甲烷真空紫外光電離光電離飛行時間質譜

二氯甲烷真空紫外光電離產品

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: 多功能真空紫外單色儀; 國外美洲; 面議; 北京先鋒泰坦科技有限公司
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二氯甲烷真空紫外光電離問答

2024-12-13 11:29:35紫外耐候試驗箱多少錢: 在現代工業生產中，紫外耐候試驗箱作為一種常見的實驗設備，廣泛應用于材料的耐候性測試、產品的老化測試等領域。許多企業在選擇此類設備時，往往關注紫外耐候試驗箱的價格。紫外耐候試驗箱的價格并不是一個固定數值，而是受到多種因素的影響。本文將詳細分析紫外耐候試驗箱的價格構成因素，幫助讀者更好地了解購買時需要關注的要素，并為預算做出合理的預估。紫外耐候試驗箱價格影響因素紫外耐候試驗箱的價格受多種因素的影響，主要包括設備的規格、性能、制造工藝、品牌以及市場需求等方面。1. 設備規格與功能配置紫外耐候試驗箱的價格首先受到其規格和功能配置的影響。市場上常見的紫外耐候試驗箱有標準型和定制型，定制型的試驗箱往往在外觀、功能配置等方面具備更多的選擇，因此價格也相對較高。設備的容量、溫控范圍、濕度控制等功能也是影響價格的重要因素。一般來說，具備更廣泛溫濕度控制范圍、更加的試驗參數和智能化控制系統的設備價格較高。2. 品牌和制造工藝品牌是紫外耐候試驗箱價格的另一個決定性因素。知名品牌的設備通常采用更高標準的制造工藝，使用更為優質的材料，并且在售后服務方面也表現得更加專業。這些因素都使得知名品牌的紫外耐候試驗箱價格相對較高。與此國產品牌和小型企業的試驗箱雖然價格較低，但可能在長期使用中的穩定性、精確性和服務保障方面有所差異。3. 市場需求和采購數量紫外耐候試驗箱的價格也與市場需求及采購數量密切相關。隨著科技發展，企業對紫外耐候試驗箱的需求逐漸增加，導致生產廠家加大研發力度，生產能力逐漸提升，價格也在一定程度上趨于穩定。而大宗采購時，企業可以根據采購數量獲得更優惠的價格，因此采購規模的大小也會對單臺設備的價格產生影響。4. 售后服務與保修政策紫外耐候試驗箱的價格還與廠家的售后服務和保修政策有關。設備的保修期、維修服務的響應速度、配件供應等都直接影響企業的采購決策。提供長時間保修和專業技術支持的品牌，通常在價格上會有一定的溢價。紫外耐候試驗箱的市場價格范圍根據市場調查，紫外耐候試驗箱的價格通常在幾萬元到十幾萬元不等。小型、功能較簡單的紫外耐候試驗箱價格一般在2萬到5萬元之間；中型或功能較全的試驗箱，價格通常在5萬到10萬元之間；而高端、大型、定制型的設備，價格則可能達到10萬元以上，甚至更高。

2023-02-15 14:54:00真空蒸發鍍膜技術原理: 真空蒸發鍍膜技術原理一、蒸發鍍膜簡述：真空蒸發鍍膜（簡稱真空蒸鍍）是指在真空室中，加熱蒸發容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到固體（稱為襯底或基片）表面，凝結形成固態薄膜的方法。由于真空蒸發法或真空蒸鍍法主要物理過程是通過加熱蒸發材料而產生，所以又稱熱蒸發法或者熱蒸鍍，所配套的設備稱之為熱蒸發真空鍍膜機。這種方法zui早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一。盡管后來發展起來的濺射鍍和離子鍍在許多方面要比蒸鍍優越，但真空蒸發技術仍有許多優點，如設備與工藝相對比較簡單，即可鍍制非常純凈的膜層，又可制備具有特定結構和性質的膜層等，仍然是當今非常重要的鍍膜技術。近年來，由于電子轟擊蒸發，高頻感應蒸發及激光蒸發等技術在蒸發鍍膜技術中的廣泛應用，使這一技術更趨完善。近年來，該法的改進主要是在蒸發源上。為了抑制或避免薄膜原材料與蒸發加熱器發生化學反應，改用耐熱陶瓷坩堝，如 BN坩堝。為了蒸發低蒸氣壓物質，采用電子束加熱源或激光加熱源。為了制造成分復雜或多層復合薄膜，發展了多源共蒸發或順序蒸發法。為了制備化合物薄膜或抑制薄膜成分對原材料的偏離，出現了反應蒸發法等。二、熱蒸鍍工作原理：真空蒸發鍍膜包括以下三個基本過程∶（1）加熱蒸發過程。包括由凝聚相轉變為氣相（固相或液相→氣相）的相變過程。每種蒸發物質在不同溫度時有不相同的飽和蒸氣壓;蒸發化合物時，其組分之間發生反應，其中有些組分以氣態或蒸氣進入蒸發空間。（2）氣化原子或分子在蒸發源與基片之間的輸運過程，即這些粒子在環境氣氛中的飛行過程。飛行過程中與真空室內殘余氣體分子發生碰撞的次數，取決于蒸發原子的平均自由程，以及從蒸發源到基片之間的距離，常稱源-基距。（3）蒸發原子或分子在基片表面上的沉積過程，即是蒸氣凝聚、成核、核生長、形成連續薄膜。由于基板溫度遠低于蒸發源溫度，因此，沉積物分子在基板表面將直接發生從氣相到固相的相轉變過程。將膜材置于真空鍍膜室內，通過蒸發源加熱使其蒸發，當蒸發分子的平均自由程大于真空鍍膜室的線性尺寸時，蒸汽的原子和分子從蒸發源表面逸出后，在飛向基片表面過程中很少受到其他粒子（主要是殘余氣體分子）的碰撞阻礙，可直接到達被鍍的基片表面，由于基片溫度較低，便凝結其上而成膜，為了提高蒸發分子與基片的附著力，對基片進行適當的加熱是必要的。為使蒸發鍍膜順利進行，應具備蒸發過程中的真空條件和制膜過程中的蒸發條件。蒸發過程中的真空條件：真空鍍膜室內蒸汽分子的平均自由程大于蒸發源與基片的距離（稱做蒸距）時，就會獲得充分的真空條件。為此，增加殘余氣體的平均自由程，借以減少蒸汽分子與殘余氣體分子的碰撞概率，把真空鍍膜室抽成高真空是非常必要的。否則，蒸發物原子或分子將與大量空氣分子碰撞，使膜層受到嚴重污染，甚至形成氧化物；或者蒸發源被加熱氧化燒毀；或者由于空氣分子的碰撞阻擋，難以形成均勻連續的薄膜。三、真空蒸鍍特點: 優點：設備比較簡單、操作容易；制成的薄膜純度高、質量好，厚度可較準確控制；成膜速率快，效率高；薄膜的生長機理比較簡單；缺點：不容易獲得結晶結構的薄膜；所形成的薄膜在基板上的附著力較小；工藝重復性不夠好等。四、蒸發源的類型及選擇：蒸發源是用來加熱膜材使之氣化蒸發的裝置。目前所用的蒸發源主要有電阻加熱，電子束加熱，感應加熱，電弧加熱和激光加熱等多種形式。電阻加熱蒸發裝置結構較簡單，成本低，操作簡便，應用普遍。電阻加熱式蒸發源的發熱材料一般選用W、Mo、Ta、Nb等高熔點金屬，Ni、Ni-Cr合金。把它們加工成各種合適的形狀，在其上盛裝待蒸發的膜材。一般采用大電流通過蒸發源使之發熱，對膜材直接加熱蒸發，或把膜材放入石墨及某些耐高溫的金屬氧化物（如Al2O3，BeO）等材料制成的坩堝中進行間接加熱蒸發。采用電阻加熱法時應考慮的問題是蒸發源的材料及其形狀，主要是蒸發源材料的熔點和蒸氣壓，蒸發源材料與薄膜材料的反應以及與薄膜材料之間的濕潤性。因為薄膜材料的蒸發溫度（平衡蒸氣壓為1. 33 Pa時的溫度）多數在1 000 ~2 000 K之間，所以蒸發源材料的熔點需高于這一溫度。而且．在選擇蒸發源材料時必須考慮蒸發源材料大約有多少隨蒸發而成為雜質進入薄膜的問題。因此，必須了解有關蒸發源常用材料的蒸氣壓。為了使蒸發源材料蒸發的分子數非常少，蒸發溫度應低于蒸發源材料平衡蒸發壓為1. 33×10-6Pa時的溫度。在雜質較多時，薄膜的性能不受什么影響的情況下，也可采用與1. 33×10-2Pa對應的溫度。綜上所述，蒸發源材料的要求：1、高熔點：必須高于待蒸發膜材的熔點（常用膜材熔點1000～2000℃）2、飽和蒸氣壓低：保證足夠低的自蒸發量，不至于影響系統真空度和污染膜層3、化學性能穩定：在高溫下不應與膜材發生反應，生成化合物或合金化4、良好的耐熱性5、原料豐富、經濟耐用蒸發材料對蒸發源材料的“濕潤性”：選擇蒸發源材料時，必須考慮蒸鍍材料與蒸發材料的“濕潤性”問題。蒸鍍材料與蒸發源材料的濕潤性”與蒸發材料的表面能大小有關。高溫熔化的蒸鍍材料在蒸發源上有擴展傾向時，可以認為是容易濕潤的;如果在蒸發源上有凝聚而接近于形成球形的傾向時，就可以認為是難干濕潤的在濕潤的情況下，材料的蒸發是從大的表面上發生的且比較穩定，可以認為是面蒸發源的蒸發;在濕潤小的時候，一般可認為是點蒸發源的蒸發。如果容易發生濕潤，蒸發材料與蒸發源十分親和，蒸發狀態穩定;如果是難以濕潤的，在采用絲狀蒸發源時，蒸發材料就容易從蒸發源上掉下來。五、合金與化合物的蒸發： 1、合金的蒸發：采用真空蒸發法制作預定組分的合金薄膜，經常采用瞬時蒸發法、雙蒸發源法。分餾現象：當蒸發二元以上的合金及化合物時，蒸發材料在氣化過程中，由于各成分的飽和蒸氣壓不同，使得其蒸發速率也不同，得不到希望的合金或化合物的比例成分，這種現象稱為分餾現象。（1）瞬時蒸發法：瞬時蒸發法又稱“閃爍”蒸發法。將細小的合金顆粒，逐次送到非常熾熱的蒸發器中，使一個一個的顆粒實現瞬間完全蒸發。關鍵以均勻的速率將蒸鍍材料供給蒸發源粉末粒度、蒸發溫度和粉末比率。如果顆粒尺寸很小，幾乎能對任何成分進行同時蒸發，故瞬時蒸發法常用于合金中元素的蒸發速率相差很大的場合。優點：能獲得成分均勻的薄膜，可以進行摻雜蒸發等。缺點：蒸發速率難以控制，且蒸發速率不能太快。（2）雙源蒸發法：將要形成合金的每一成分，分別裝入各自的蒸發源中，然后獨立地控制各個蒸發源的蒸發速率，使達到基板的各種原子與所需合金薄膜的組成相對應。為使薄膜厚度分布均勻，基板常需要進行轉動。2、化合物的蒸發：化合物的蒸發方法：（1）電阻加熱法（2）反應蒸發法（3）雙源或多源蒸發法（4）三溫度法（5）分子束外延法反應蒸發法主要用于制備高熔點的絕緣介質薄膜，如氧化物、氮化物和硅化物等。而三溫度法和分子外延法主要用于制作單晶半導體化合物薄膜，特別是III-V族化合物半導體薄膜、超晶格薄膜以及各種單晶外延薄膜等。將活性氣體導入真空室，使活性氣體的原子、分子和從蒸發源逸出的蒸發金屬原子、低價化合物分子在基板表面淀積過程中發生反應，從而形成所需高價化合物薄膜的方法。不僅用于熱分解嚴重，而且用于因飽和蒸氣壓較低而難以采用電阻加熱蒸發的材料。經常被用來制作高熔點的化合物薄膜，特別是適合制作過渡金屬與易分解吸收的02， N2等反應氣體所組成的化合物薄膜（例如SiO2、ZrN、AlN、SiC薄膜）。在反應蒸發中，蒸發原子或低價化合物分子與活性氣體發生反應的地方有三種可能，即蒸發源表面、蒸發源到基板的空間和基板表面。

2023-07-29 11:31:59真空BNC連接器產品優勢: 同軸真空BNC接頭是一種常見的射頻連接器，廣泛應用于射頻和微波通信、數據處理及測量設備。BNC（Bayonet Neill-Concelman）接頭是由美國的Paul Neill和Carl Concelman于1945年發明的。以下是同軸真空BNC接頭的一些特點和優勢：1. 易于連接和斷開：BNC接頭采用了快速卡口式結構，使得連接和斷開變得非常方便。用戶只需將插頭插入座子，然后旋轉90度即可完成連接。2. 較低的插損：同軸真空BNC接頭的設計使得在連接過程中的信號損失較低，提高了設備的性能。3. 良好的屏蔽性能：BNC接頭具有良好的屏蔽性能，能有效阻止外部電磁干擾，確保信號的穩定傳輸。4. 兼容性強：BNC接頭廣泛應用于各種設備之間的連接，具有很強的通用性和兼容性。5. 經濟實用：同軸真空BNC接頭的生產成本相對較低，使得它在許多應用場景中成為主要的連接器。6. 頻率范圍：BNC接頭的工作頻率范圍可達到4 GHz，適用于多種射頻和微波通信場景。7. 真空兼容性：同軸真空BNC接頭經過特殊處理，可在真空環境中使用，適用于高真空和超高真空系統。需要注意的是，隨著通信技術的發展，BNC接頭的頻率范圍可能不足以滿足一些高性能應用的需求。在這種情況下，可以考慮使用其他更高頻率的同軸連接器，如SMA、N型等。

2023-07-20 15:58:30紫外老化試驗箱：基本原理及操作步驟: 紫外老化試驗箱是一種用于模擬自然環境中的紫外線、濕度和溫度對材料老化影響的設備。它被廣泛用于研究材料的耐久性、性能和可靠性，是產品質量控制和研發過程中不可或缺的實驗設備。上海和晟 HS系列紫外老化試驗箱紫外老化試驗箱通常由箱體、紫外燈、控溫系統、濕度控制系統和樣品旋轉系統等組成。箱體用于容納樣品，紫外燈用于模擬太陽光中的紫外線，控溫系統用于控制試驗溫度，濕度控制系統用于控制試驗濕度，樣品旋轉系統用于使樣品均勻受到紫外線的照射。操作紫外老化試驗箱的步驟如下：準備樣品：將需要測試的材料制作成標準樣件，并清洗干凈。設置試驗參數：根據測試需求，設置試驗溫度、試驗濕度和紫外燈的照射時間等參數。將樣品放入試驗箱：將準備好的樣品放入試驗箱中，確保樣品均勻受到紫外線的照射。開啟試驗箱：開啟試驗箱的電源，啟動試驗。定期觀察樣品的的變化：在試驗過程中，需要定期觀察樣品的顏色變化、性能變化等，記錄實驗數據。結束試驗：達到設定的試驗時間后，關閉試驗箱的電源，結束試驗。使用紫外老化試驗箱時需要注意以下事項：注意安全：試驗過程中，需要避免手伸入試驗箱中，以防燙傷或者紫外線過度照射傷害皮膚。保養設備：定期清洗試驗箱內部，更換濾網，保持設備的良好運行狀態。正確使用設備：根據設備操作手冊進行操作，避免誤操作導致設備損壞或者樣品測試結果不準確。在使用紫外老化試驗箱的過程中，可能會遇到一些問題，例如紫外燈不亮、控溫系統失靈等。對于這些問題，可以參考設備操作手冊或者聯系設備生產商進行解決。紫外老化試驗箱具有模擬自然環境老化的作用，可以有效地檢測材料的耐久性、性能和可靠性。但是，由于設備的價格較高，維護成本也較高，因此需要在購買和維護設備時進行綜合考慮。總之，紫外老化試驗箱是一種重要的材料老化測試設備，可以有效地幫助研究人員了解材料的性能和可靠性。在使用設備時，需要注意安全和設備的保養，同時正確使用設備，避免誤操作對設備造成損壞或者影響測試結果的準確性。