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薄膜沉積 DV-502 熱蒸發薄膜沉積

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產品特點

DV-502 熱蒸發系統蒸發光學鍍膜、金屬化和電子顯微鏡樣品制備中涉及的許多金屬,且沒有可辯的污染。 DV-502還提供一系列配置的靈活性。

詳細介紹

簡介

DV-502 熱蒸發系統蒸發光學鍍膜、金屬化和電子顯微鏡樣品制備中涉及的許多金屬,且沒有可辯的污染。 DV-502還提供一系列配置的靈活性,以滿足您的需求,包括從鎢絲、金屬絲筐、箔船、擋板箱加熱器以及碳棒或紗線附件等多種來源蒸發。




用途:

金屬和碳的旋轉遮蔽  用于制作親水性TEM網格的輝光放電  金屬和介電膜配方開發   高分辨率樣品制備小規模生產

法醫分析   故障分析  質量保證


優勢:

使用DV-502,您將獲得快速的循環時間—系統可以在三分鐘內達到10-6托的范圍。無污染的性能確保其成為電子顯微鏡樣品制備的較好選擇。


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