GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的最簡單、可靠、經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。

主要特點

1、設有真空表、濺射電流表，可實時監控工作狀態。

2、通過調節濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體，以獲得**鍍膜效

果。

3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設計，可保證長期使用不出現玻璃鐘罩崩邊現象。

4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經久耐用。

5、根據電場中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。

6、濺射頭采用Peltier制冷技術，可得到高性能、精細顆粒的涂層。

7、可用水冷濺射頭、水冷載物臺。

技術參數

1、靶：Φ50mm

2、真空室：Φ160mm×120mm

3、真空度上限：≤4×10^-2mbar

4、電流上限：50mA（100mA）

5、可設定最長時間：9999s

6、微型真空氣閥：連接Φ3mm軟管

7、電壓上限：1600V DC

8、機械泵：2L/s

產品規格

尺寸：360mm×300mm×380mm

標準配件

1、金靶材

2、進氣針閥

3、保險絲

可選配件

金、銦、銀、鉑等各種靶材