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全自動原子層沉積系統(ALD)
- 品牌：維易科
- 型號： Firebird
- 產地：美洲 美國
- 供應商報價：面議
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香港電子器材有限公司
更新時間：2025-04-09 10:12:53 -
銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業執照已審核
- 同類產品原子層沉積系統(4件)
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產品特點
- Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經有15年以上的ALD研發生產經驗。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學，05年搬到Boston并生產出Thermal ALD - Savannah, 之后生產出Plasam ALD - Fuji、批量生產ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設備已有15年多的經驗，全球已安裝五百多臺ALD設備。
詳細介紹
產品介紹：
Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經有15年以上的ALD研發生產經驗。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學，05年搬到Boston并生產出Thermal ALD - Savannah, 之后生產出Plasam ALD - Fuji、批量生產ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設備已有15年多的經驗，全 球已安裝五百多臺ALD設備。
Firebird Batch Thermal ALD System
方式: Thermal batch ALD
優勢:完全自動化的批量生產系統，**生產能力（每月zui多40000片），zuidi的成本，zui高的產量，極優的一致性針對脆弱/溫度敏感的襯底解決方案，包括LNO/LTO/玻璃模塊化熱管理，以實現**工藝靈活性和產量
薄膜: 氧化物薄膜，包含封裝層、光學涂層氧化物薄膜，包含封裝層、光學涂層
反應腔體大小: 無縫晶片尺寸轉換能力高達300mm
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滬公網安備 31011502008050號