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SD-900M 磁控濺射儀
- 品牌:博遠(yuǎn)微納
- 型號(hào): SD-900M
- 產(chǎn)地:北京 海淀區(qū)
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià):¥48000
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北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司
更新時(shí)間:2025-02-21 08:20:30
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銷售范圍售全國(guó)
入駐年限第8年
營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品儀器(3件)
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- SD-900M 磁控濺射儀 核心參數(shù)
產(chǎn)品特點(diǎn)
- SD-900M 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致。
磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。
配有高位定性的飛躍真空泵 詳細(xì)介紹
SD-900M 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致。
磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。
配有高位定性的飛躍真空泵
參數(shù)
濺射氣體:根據(jù)實(shí)驗(yàn)?zāi)康目商砑託鍤猓獨(dú)獾榷喾N氣體。
濺射靶材:標(biāo)配靶材為金靶,厚度為50mm*0.1mm。也可根據(jù)實(shí)際情況配備銀靶、鉑靶等。
濺射電流:最大電流100mA,最大工作電流80mA
濺射速率:30nm/min
樣品倉(cāng)尺寸:直徑160mm,高120mm
樣品臺(tái)尺寸:樣品臺(tái)尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺(tái),也可根據(jù)自身要求定制樣品臺(tái)
工作電壓:220V(可做110V),50HZ
需要鍍膜的樣品
電子束敏感的樣品 非導(dǎo)電的樣品 新材料 主要包括生物樣品,
塑料樣品等。S EM中
的電子束具有較高能量,
在與樣品的相互作用
過(guò)程中,它以熱的形式
將部分能量傳遞給樣品。
如果樣品是對(duì)電子束
敏感的材料,那這種相互
作用會(huì)破壞部分
甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu)。
這種情況下,用一種
非電子束敏感材料制備
的表面鍍層就可以起到
保護(hù)層的作用,防止此
類損傷;
由于樣品不導(dǎo)電,
其表面帶有“電子陷阱”,
這種表面上的電子積累
被稱為“充電”。
為了消除荷電效應(yīng),
可在樣品表面鍍一層
金屬導(dǎo)電層,鍍層作為
一個(gè)導(dǎo)電通道,
將充電電子從材料
表面轉(zhuǎn)移走,消除
荷電效應(yīng)。在掃描電鏡
成像時(shí),濺射材料
增加信噪比,從而獲
得更好的成像質(zhì)量。
非導(dǎo)電材料實(shí)驗(yàn)電極
制作觀察導(dǎo)電特性
ETD系列鍍膜儀是一款專為SEM、TEM及薄膜應(yīng)用設(shè)計(jì)的真空鍍膜儀,對(duì)于掃描電鏡尤其是高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(SEM)樣品制備、透射電鏡(TEM)及其它非電鏡(如材料領(lǐng)域)鍍膜應(yīng)用非常理想。ETD離子濺射儀采用金屬壓制的標(biāo)準(zhǔn)機(jī)箱,此機(jī)箱做工精良,結(jié)構(gòu)穩(wěn)固。飛越牌真空泵抽數(shù)快,真空穩(wěn)定性高。自主設(shè)計(jì)的微型真空閥能準(zhǔn)確的控制好壓強(qiáng),保證了鍍膜期間**的真空條件。真空腔室直徑為165mm (6.5英寸)的硼硅酸鹽玻璃,特殊設(shè)計(jì)的鐘罩邊緣橡膠密封圈,可保證長(zhǎng)期使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象;陶瓷密封高壓頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。ETD系列含有電磁閥裝置,在工作完畢后緩慢,平穩(wěn)的進(jìn)氣以確保鍍好的膜層盡可能的不被空氣中的雜質(zhì)所污染。ETD系列有七種型號(hào):ETD-900、ETD-800、ETD-900C、ETD-800C、ETD-900M、ETD-3000、ETD-MH、ETD-CH,其中ETD-900C為一款集成了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空鍍膜方式的系統(tǒng),鍍膜頭可在數(shù)秒內(nèi)快速完成鍍膜。它既可濺射易氧化及不氧化金屬(貴金屬),標(biāo)配一塊金靶,可選金、銀、鉑等多種金屬靶;用來(lái)制作高穩(wěn)定性的碳膜和表面覆形膜,對(duì)透射電鏡(TEM)的應(yīng)用非常理想。
ETD-900M為一款濺射插入頭為磁控系統(tǒng)的濺射儀,可使濺射處理期間產(chǎn)生的高能電子偏轉(zhuǎn),從而遠(yuǎn)離樣品,這有助于創(chuàng)建必要的冷濺射環(huán)境以消除熱影響,且確保濺射成膜中的精細(xì)顆粒結(jié)構(gòu);
ETD-3000型為一款針對(duì)材料做電極的濺射儀,較高的輸出電壓能使成膜更加牢固,防止膜層脫落。
儀器特點(diǎn):
金屬濺射和碳蒸發(fā)兩者兼?zhèn)洌惑w化設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)緊湊,節(jié)約空間。
精細(xì)顆粒濺射——適合先進(jìn)的高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡和鎢燈絲掃描電鏡制樣的應(yīng)用。
定時(shí)器控制——快速數(shù)據(jù)輸入,操作簡(jiǎn)單。采用定時(shí)器作為簡(jiǎn)單的操作核心,即使最不熟練的或偶而使用的操作者,儀器也能使其快速鍵入自己的處理數(shù)據(jù)。
微型真空調(diào)節(jié)閥讓使用者更好調(diào)節(jié)真空,以適應(yīng)不同的靶材和材料,形成最更優(yōu)質(zhì)的薄膜。
精細(xì)的厚度控制——使用膜厚監(jiān)控選項(xiàng)。(選配)
先進(jìn)的碳纖維夾持上蓋——簡(jiǎn)單操作,重復(fù)性好。
標(biāo)配高低可調(diào)節(jié)樣品臺(tái),可放置多個(gè)樣品杯。還可定制多種型號(hào)樣品臺(tái)。
自動(dòng)泄氣裝備可防止真空泵由于壓差原因使油倒灌進(jìn)樣品室,還可避免樣品突然暴露在空氣中造成膜的污染。
標(biāo)準(zhǔn)成型機(jī)箱——小巧,美觀,易維護(hù)和易拆裝。
特殊設(shè)計(jì)的鐘罩邊緣橡膠密封圈,可保證長(zhǎng)期使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象;陶瓷密封高壓頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。
部分可選項(xiàng):
光纖夾持旋轉(zhuǎn)樣平臺(tái)
球型旋轉(zhuǎn)臺(tái)
顯微鏡載玻片樣品臺(tái)
用于高樣品的加高腔室
膜厚監(jiān)測(cè)附件(FTM),用于可重復(fù)膜厚控制:到達(dá)理想膜厚。
技術(shù)文章
樣品室尺寸 | 160mm×120mm(D×H) | 靶材料 | au |
靶尺寸 | 50MM | 濺射面積 | 50MM |
真空度 | 1pa |