簡介
美國應用光譜公司(AppliedSpectraInc.)專注研究激光剝蝕和光譜分析技術的高技術公司。研發人員均為美國勞倫斯伯克利國家實驗室的研究人員。公司總裁RichardRusso博士為美國勞倫斯伯克利國家實驗室的ZS科學家，從事激光剝蝕及激光光譜元素分析技術三十多年，創造性的將激光剝蝕技術(LaserAblation,LA)及激光誘導擊穿光譜(LaserInducedBreakdownSpectroscopy,LIBS)相融合，研發了J200系列激光剝蝕進樣系統及光譜分析系統。
J200納秒激光剝蝕進樣及激光誘導擊穿光譜復合系統實現了LIBS與LA-ICP-MS的同時測量，并具備多種測量功能：可測量常量，微量和同位素(與ICP-MS串聯)；分析有機元素及輕元素；元素三維空間分布；校正ICP-MS質譜信號。主要用于地質礦物，土壤，植物，合金，新能源材料(例如鋰電池材料)，刑偵證據等樣品的剝蝕進樣及化學成分分析。
J200 LA 激光剝蝕進樣系統可與市面上的四級杠質譜儀，飛行時間質譜儀和高分辨質譜儀串聯使用。

J200 LA 激光剝蝕進樣系統特色
高穩定Q開關,短脈沖Nd:YAG激光 ，可選擇多波長<5nsecat213nm ，創新的模組化設，為獨立 LA,LIBS,LA-LIBS復合的系統設計 ，因分析需求，提供三種LIBS檢測器選擇 ，激光剝蝕均勻且一致性的LA系統
自動樣品高度調整功能

J200激光剝蝕進樣系統采用ASIZL技術：剝蝕導航激光和樣品高度自動調整傳感器相結合，解決了若樣品表面凹凸不平而剝蝕不均、導致元素含量值誤差大的問題；激光能量穩定閥確保了到達樣品表面的激光能量均勻，使所有采樣點的激光燒蝕均勻一致；3-D全自動操作臺最大行程可達100mmx100mmx36mm，XY行程分辨率0.2μm，Z行程分辨率0.1μm，優于其它任何同類產品

穩定激光能量的光閘設置

高分辨雙CMOS相機系統，可用于寬視野觀測樣品表面特征應用光譜公司的Flex樣品室內置氣體模組可優化氣流和顆粒清潔能力，滿足不同測量要求，先進的微集氣管設計，可盡可能的減少排氣，防止集結剝蝕顆粒，消除記憶影響。
雙通道高精度質量流量控制器和電子控制閥
AxiomLA軟件系統
軟件可整合控制硬件組件及ICP-MS同pu步操作，輕松實現繁雜的激光采樣與分析模式 ，強大的數據分析工具用于繁雜的 LA-ICP-MS串聯光譜分析

靈活的分析方法：全分析，夾雜物分析，斑點分析，深度分析和元素分映像
維護成本低

可擴充升級LALIBS復合系統
可擴充升級飛秒LA系統