產品介紹：

創新折射微納光學

高精度的增材制造可打印出尖 端的折射微納光學元件。得益于雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創新設計。

增材制造應用于高精度微納光學制造

Nanoscribe的全新Quantum X無掩模光刻系統適用于2.5D折射微納光學元件制作，可以實現幾乎任何形狀的創新設計，并具備出色的形狀精度。得益于Nanoscribe的雙光子灰度光刻技術（2GL?），可以根據透鏡輪廓調節激光功率，從而單層打印微納光學器件，更大的透鏡制作也可以通過多層打印實現。這種方法大大縮短了打印時間。

2GL應用于尖 端微納光學制作

折射微光學領域應用

想探索折射微光學領域項目的更多可能性嗎？歡迎了解我們3D微納加工解決方案的不同應用，以及有關折射微光學領域的最 新10篇科學出版物。
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