在金屬分析領域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析最理想的手段。表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區域實現質量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂（鍍）層厚度及化學成分。
對于傳統的分析方法不能解決的材料分析問題，輝光放電光譜技術可以作為優先選用的方法。采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導體材料和涂層，如玻璃，陶瓷，釉質和油漆涂層。

GDA750可以配備60個以上的分析通道，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂（鍍）層的深度可測量至200μm。表面分析和獲得的分辨率達1個原子層。分析軟件具有強大功能并且靈活易用；化學成分可以與其他特性，如被分析區域中的密度和質量分布同時測定。
通過比較涂（鍍）層工藝過程（CVD，PVD）前后的表面特性，確保生產工藝過程**化和zui*程度地避免廢品浪費。GDA750也可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學成分），為復雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線。
采用可選的射頻輝光放電光源，GDA750可用于分析非導電性材料，如陶瓷，玻璃和油漆涂層。

主要特點：
1.涂（鍍）層材料和均相材料化學成分的分析，痕量和微量合金元素的檢測和測量
2.濃度分布測定和表層測量數據的定性/定量評價
3.測定被分析表面層內部的相/相比
4.軟件基于Windows 2000環境，日常分析功能采用易用的軟件界面，使用戶能很快地熟悉儀器的使用
5.具有許多適于用戶的軟件功能選項，如顯示輸出、數據傳輸和數據格式