- 2025-01-10 17:03:54脈沖激光沉積（PLD）
- 脈沖激光沉積（PLD）是一種先進(jìn)的薄膜制備技術(shù)，它利用高能脈沖激光照射靶材，使靶材表面物質(zhì)瞬間蒸發(fā)、電離形成高溫高密度的等離子體，等離子體定向膨脹并在襯底上沉積形成薄膜。該技術(shù)具有成分易控、可制備多層復(fù)雜結(jié)構(gòu)、適用于多種材料等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于氧化物薄膜、超導(dǎo)薄膜、鐵電薄膜等的制備。同時(shí)，PLD技術(shù)還能實(shí)現(xiàn)高精度原位摻雜，是材料科學(xué)與技術(shù)領(lǐng)域的重要研究手段。
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