- 2025-01-10 10:50:37無損評價掃描裝置
- 無損評價掃描裝置是一種利用先進掃描技術對物體進行非破壞性檢測和評價的設備。它采用各種高精度傳感器和算法，能夠獲取物體的內部結構、缺陷和性能信息，實現對物體全面、準確的檢測和評價。該裝置具有高效率、高精度、非接觸式檢測等特點，廣泛應用于材料科學、制造業、航空航天等領域，為產品質量控制、安全評估和科學研究提供重要支持。
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無損評價掃描裝置問答
- 2023-06-26 14:52:50無損無接觸定量評價！GaN晶體質量評估新思路——ODPL法！
- 隨著疫情三年的結束，大家又開始馬不停蹄出差、旅游、返鄉，生活的壓力讓人喘不過氣。更別提出行的時候，還需要背一個很沉的電腦，以及與它適配的、同樣很沉的、形狀不規律的、看著就很糟心的電源適配器！有沒有一種東西，能夠讓大家的出行變得更加輕松（物理上）？那必須是現在越來越流行的氮化鎵（GaN）充電器了！一個氮化鎵充電器幾乎可以滿足所有出行充電的需求，并且占地空間小，簡直是出行神器！圖1 氮化鎵（GaN）充電器氮化鎵是一種無機物，化學式GaN，是氮和鎵的化合物，一種直接能隙（direct bandgap）的半導體材料。GaN材料具有寬禁帶、高臨界電場強度和高電子飽和速度等特點，其器件耐高溫、耐高壓、高頻和低損耗，大大提升電力器件集成度，簡化了電路設計和散熱支持，具有重要的價值和廣泛的應用，是現在最 火熱的第三代半導體材料，沒有之一。GaN的應用不止在流行的充電器上，早在2014年日本科學家天野浩就憑借基于GaN材料的藍光LED獲得了諾貝爾獎。不過GaN就沒有缺點了嗎？或者說GaN沒有改善的地方了嗎？并不是， GaN技術的難點在于晶圓制備工藝。由于制備GaN的單晶材料無法從自然界中直接獲取，所以GaN的主要制備方法是在藍寶石、碳化硅、硅等異質襯底上進行外延。而現在由異質外延生長的GaN普遍存在大量缺陷的問題。缺陷的存在勢必會影響到晶體的質量，從而影響到材料和器件的電學性能，最 終影響到未來半導體科技的快速發展。因此，降低GaN晶體里面的缺陷量，提高晶體質量，是當前第三代半導體領域研究很重要的一個課題。GaN晶體質量/缺陷評估的方法GaN晶體里面的雜質、缺陷是非常錯綜復雜的，無法單純通過某一項缺陷濃度或者雜質含量來定量描述GaN晶體是否是高質量，因此現在評價GaN晶體質量的手段比較有限。根據現有的報道，大致有以下幾種：多光子激發光致發光法（Multiphoton-excitation photoluminescence method，簡稱MPPL）、蝕坑觀察法（Etch pit method）以及二次離子質譜（Secondary-ion mass spectrometry，簡稱SIMS)。MPPL法多光子激發光致發光法采用長波長激發，遠大于帶邊熒光波長。激發過程需要同時吸收二個或者多個光子。通過吸收多個脈沖光子，在導帶和價帶形成電子空穴對，隨后非輻射馳豫到導帶底和價帶頂,最 后產生帶邊發光和缺陷發光。通過濾波片獲得帶邊和缺陷發光光譜和光強，改變入射光斑的位置，從而得到樣品的熒光信號三維分布，即三維成像。多光子熒光三維成像技術可以識別和區分不同類型的位錯，但是無法定量評估GaN的晶體質量，而且多光子激發的系統造價高。圖2 (a) Optical microscope image of etch pits. (b) 42 × 42 μm2 2D MPPL image taken at a depth of 22 μm. (c) 42 × 42 × 42 μm3 3D MPPL image, shown with contrast inverted參考文獻：Identification of Burgers vectors of threading dislocations in free-standing GaN substrates via multiphoton-excitation photoluminescence mapping' by Mayuko Tsukakoshi et al; Applied Physics Express, Volume 14, Number 5 (2021)蝕坑觀察法蝕坑觀察法通過適當的侵蝕可以看到位錯的表面露頭，產生比較深的腐蝕坑，借助顯微鏡可以觀察晶體中的位錯多少及其分布。該方法只適合于位錯密度低的晶體，如果位錯密度高，蝕坑互相重疊，就很難將它們區分。并且該方法是對晶體有損傷的，做不到無損無接觸。圖3 蝕坑觀察法SIMS技術SIMS是利用質譜法分辨一次離子入射到測試樣品表面濺射生成的二次離子而得到材料表面元素含量及分布的一種方法。SIMS可以進行包括氫在內的全元素分析，并分辨出同位素、化合物組分和部分分子結構的信息。二次離子質譜儀具有ppm量級的靈敏度，最 高甚至達到ppb的量級，還具有進行微區成分成像和深度剖析的功能。但是SIMS對晶體有損傷，無法做到無損。圖4 SIMS技術以上三種技術均是評估GaN晶體缺陷的方法，但是每一種都有其缺憾的地方，它們無法做到定量的去評價GaN晶體的質量，而且具有破壞性。為了更好地定量評估GaN晶體質量，濱松公司和日本Tohoku University的Kazunobu Kojima教授以及Shigefusa Chichibu教授從2016年開始合作研發了一套基于積分球的全向光致發光系統（Omnidirectional Photoluminescence，以下簡稱ODPL），該系統是第 一個無損無接觸定量去評價GaN晶體質量的方法/系統。ODPL系統ODPL系統是首 個無接觸無損評價半導體材料晶體質量的方法，通過積分球法測量半導體材料、鈣鈦礦材料的內量子效率。該產品可以直接測量材料 IQE，具有制冷型背照式 CCD 高靈敏度以及高信噪比。圖5 ODPL測量方法示意圖傳統光致發光的量子效率測量指的是晶體的PLQY，即光致發光量子效率，其定義為：PLQY = 樣品發射的光子數/樣品吸收的光子數圖6 GaN樣品在積分球下的發射光譜PLQY是表征晶體發光效率最 常見的參數之一，對于絕大多數的發光材料，PLQY都是黃金標準。但是對于GaN晶體，PLQY的表征顯得不足。上圖可見，GaN的光致發射光譜呈雙峰形狀，這是由于GaN晶體中的缺陷等，會將GaN本身發射的PL再次吸收然后發射（光子回收Photon Recycling現象）。圖7 ( a ) PL and ODPL spectra of the HVPE / AT - GaN crystal and ( b ) detectable light - travelling passes considered in the simulation of light extraction :(1) direct escaping from the surface :( ii ) scattered at the bottom and escaping from the surface : and ( ii ) direct eseaping from the edge .( c ) Refractive index and absorption spectra of HVPE / AT - GaN .因為存在Photon Recycling的現象，GaN的PLQY不足以表征其發光轉化效率，而真正可以表征GaN晶體發光轉化效率的定義是其真正的內量子效率：IQE = 樣品產生的光子數/樣品吸收的光子數圖8 GaN樣品的標準發射光譜IQE是GaN晶體的PLQY考慮LEE和光子回收現象以后的參數，更能直觀、定量反映GaN晶體的質量。圖9 高IQE和低IQE晶體的對比高IQE的GaN晶體通常表現為：高載流子濃度、低穿透位錯密度、低雜質濃度、低點缺陷濃度、高激發功率密度。圖10 不同穿透位錯密度晶體的IQE結果對比免費樣機預約ODPL現在ODPL樣機開放免費預約試 用活動，有意向的客戶請在評論區留言“樣機試 用”小編看到之后會第 一時間與您聯系，樣機數量有限，先到先得喲~圖11 ODPL樣機展示以上有關新品的信息已經全部介紹完畢了，如有任何疑問，歡迎在評論區留言喲。
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- 2025-02-14 15:00:13光學成像系統評價參數怎么看？
- 光學成像系統評價參數 光學成像系統作為現代科學技術的重要組成部分，廣泛應用于醫學成像、遙感監測、工業檢測、生命科學等多個領域。為了保證這些系統在實際應用中的優越表現和度，必須通過一系列科學合理的評價參數來進行評估。本文將圍繞光學成像系統的主要評價參數展開探討，分析其對成像質量的影響，并提供如何優化這些參數以提升系統性能的見解。 光學成像系統的評價參數包括分辨率、對比度、噪聲、色彩還原性、透過率和畸變等幾個方面。每一項參數都對成像效果產生重要影響，并且在不同的應用場景中，優先級也會有所不同。因此，理解這些評價參數并在實踐中進行優化，對于提高光學成像系統的應用價值至關重要。 分辨率是評價光學成像系統的重要指標之一，通常用來衡量系統在空間上還原細節的能力。高分辨率意味著能夠捕捉到更精細的圖像細節，但同時也對光學系統的設計和制造精度提出更高要求。分辨率的評估標準一般通過測量系統能夠識別的小物體細節來進行，這一指標直接影響到圖像的清晰度與細節表現。 對比度指的是成像系統中亮暗部分的差異程度，它決定了圖像的清晰度與層次感。在光學成像中，高對比度可以使圖像更加生動、層次分明，尤其在低光照環境下尤為重要。通過增加光源亮度或者優化光學系統的光學性能，能夠有效提升成像的對比度，使得圖像質量進一步提高。 噪聲則是另一個關鍵參數，它描述了成像過程中可能出現的干擾信號。噪聲的來源可能是環境因素、傳感器的技術限制、信號傳輸過程中的損耗等。噪聲會導致圖像質量下降，影響到細節的還原。因此，在光學成像系統中，通過使用高靈敏度的傳感器、優化信號處理技術，可以有效降低噪聲的影響，確保成像質量更加真實和準確。 色彩還原性是指光學成像系統能夠準確再現物體真實顏色的能力。尤其在醫學影像、藝術作品復制等領域，色彩還原性對圖像的真實性和應用價值具有重要意義。色彩還原的準確性不僅依賴于光源和傳感器的質量，還與圖像處理算法密切相關。因此，在光學成像系統中，色彩還原性常常通過精確的校正和算法調整來進行優化。 透過率是衡量光學元件（如鏡頭、濾光片等）透光能力的參數。高透過率意味著更多的光能夠通過系統，這對于低光照條件下的成像至關重要。提高透過率不僅可以改善圖像亮度，還能提高系統在各種環境下的適應性，尤其是在需要高靈敏度和快速響應的應用中。 畸變是指光學成像系統中圖像幾何形狀的失真，通常表現為直線變彎或比例失衡。畸變的產生與光學元件的設計密切相關，尤其是在高倍率成像系統中更為明顯。通過合理設計光學元件、使用補償算法等方式，可以有效減小畸變，確保成像效果更加精確。 光學成像系統的評價參數不僅涉及成像質量的各個方面，也反映了系統在特定應用中的適應性與優化空間。只有全面理解這些參數，并結合實際需求進行調節，才能實現光學成像系統的佳性能。在實際應用中，綜合考慮分辨率、對比度、噪聲、色彩還原性、透過率與畸變等多個因素，能夠有效提升成像質量，并滿足不同領域對精確成像的高要求。
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- 2021-07-20 17:14:48EDX9000A 無損測定無損測定 Ni-Mn-Co 催化
- EDXRF 能量色散熒光光譜儀 EDX9000A 無損測定 Ni-Mn-Co 催化劑合金成分使用一系列已知Ni、Mn、Co含量的催化劑合金片標準樣品，在能量色散X射線熒光光譜儀EDX9000A上直接測量Ni-Mn-Co的特征X射線強度，并比較含量Ni、Mn 和 Co 及其特征 X 射線強度擬合并建立工作曲線。測量未知樣品時，利用測得的 Ni、Mn 和 Co 的特征 X 射線強度，通過工作曲線獲得 Ni、Mn 和 Co 的含量。采用EDXRF法測定Ni-Mn-Co催化劑合金中Ni、Mn、Co的含量范圍分別為65%~88%、10%~35%、1%~10%，測定Ni、Mn、Co（n=6）精度分別為0.3%、1%、4%
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- 2023-07-03 11:40:41提高采收率機理評價設備
- 評價設備是用于評估油田采收率提高機理和效果的工具和設備。以下是一些常用的評價設備：1.巖心分析設備：通過獲取巖心樣品，并對其進行物理性質、孔隙結構、滲透率等方面的測試和分析，可以了解巖石的儲集能力、油水相滲流規律等信息，從而評估采收率的潛力和機理。2.巖石物理實驗設備：使用巖石物理實驗設備可以模擬油藏中的物理過程，如孔隙介質中的流體流動、飽和度變化等。這些設備可以用于研究不同的采收率提高技術的效果，如水驅、氣驅、化學驅等。3.模擬實驗設備：模擬實驗設備通過模擬油藏的地質條件和物理過程，如滲流實驗裝置、油藏模擬器等，可以評估不同的采收率提高技術的影響。這些設備可以模擬實際采油過程中的流體行為和相互作用，以及采收率的變化。4.油藏動態監測設備：通過使用地下測井技術、生產數據監測和分析裝置等，可以實時或定期地監測和記錄油藏的動態變化，如產量、壓力、滲透率等。這些設備可以提供實際采收率提高效果的反饋信息，并評估不同的采收率增強技術的有效性。5.數值模擬軟件：數值模擬軟件通過建立油藏的數學模型，模擬不同的采收率提高技術在油藏中的效果。這些軟件可以預測和評估不同操作方案對采收率的影響，優化采收率提高策略。綜合使用以的表述，核磁共振設備是較符合的設備。低場核磁共振技術作為不斷開發的前沿技術手段，基于對氫質子信號的優秀捕捉能力以及配套的可以真實模擬實際采油過程中的流體行為和相互作用，以及采收率的變化。低場核磁實驗裝置架構圖
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- 2023-07-12 14:28:10核磁共振測試裝置
- 核磁共振（Nuclear Magnetic Resonance，NMR）測試裝置是用于進行核磁共振實驗的儀器設備。它通常由以下幾個主要組成部分構成：1.磁體（Magnet）：磁體是核磁共振測試裝置的主要組成部分，用于產生強大的恒定磁場。常見的磁體類型包括超導磁體和永磁磁體。超導磁體通常使用低溫超導材料制成，能夠產生非常高的磁場強度，而永磁磁體則使用常久磁體產生相對較低的磁場強度。2.射頻系統（RF System）：射頻系統用于產生和控制射頻脈沖，用于激發和探測核自旋的共振信號。它通常包括射頻發生器、射頻放大器和射頻線圈。射頻脈沖的頻率和功率可以根據實驗需要進行調節。3.控制系統（Control System）：控制系統用于控制整個核磁共振測試裝置的操作。它通常包括計算機、數據采集系統和相關的控制軟件。計算機通過軟件控制實驗參數的設置、數據采集、處理和分析等操作。4.梯度線圈（Gradient Coils）：梯度線圈用于在空間中產生線性磁場梯度，以實現對樣品的空間定位和空間編碼。通過梯度線圈的控制，可以實現核磁共振成像（MRI）等空間分辨率較高的實驗技術。5.探測器（Detector）：探測器用于接收和檢測核磁共振信號。常見的探測器包括線圈探測器（例如表面線圈和體積線圈）和光學探測器（例如光纖光柵）等。核磁共振測試裝置的具體配置和規格會因應用領域和實驗需求的不同而有所差異。不同的裝置可以進行各種類型的核磁共振實驗，包括化學成分分析、結構鑒定、動力學研究、磁共振成像等。
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