
靶材
鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí),會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材,即可得到不同的膜系。
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- [公開招標(biāo)公告]北京大學(xué)重慶碳基集成電路研究院8寸PVD設(shè)備Pd靶材采購(gòu)項(xiàng)目公開招標(biāo)公告
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- [競(jìng)爭(zhēng)性磋商公告]中國(guó)科學(xué)院電工研究所銅氧化物超導(dǎo)體靶材采購(gòu)項(xiàng)目競(jìng)爭(zhēng)性磋商
- [競(jìng)爭(zhēng)性談判公告]磁控濺射貴金屬靶材競(jìng)爭(zhēng)性談判公告
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